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ZESTRON 携领先水基清洗技术亮相Semicon West

时间：2018-07-06 10:47来源：21IC中国电子网

摘要：全球领先的电子制造及半导体加工行业精密清洗产品和技术解决方案提供商ZESTRON，将携先进的MPC和HYDRON清洗技术出席SemiconWest2018（美国西部国际半导体设备展览会）。展会将于7月10日至12日在旧金山莫斯克尼展览中心举行，ZESTRON在5673展台恭候您的光临。

全球领先的电子制造及半导体加工行业精密清洗产品和技术解决方案提供商ZESTRON，将携先进的MPC 和 HYDRON 清洗技术出席Semicon West 2018（美国西部国际半导体设备展览会）。展会将于7月10日至12日在旧金山莫斯克尼展览中心举行，ZESTRON在5673展台恭候您的光临。
 
MPC 和HYDRON 技术是由ZESTRON研发的创新型水基清洗技术。可以有效清洗DCB，IGBT，分立器件，功率LED等功率电子，同时去除为了提升绑定能力、增强润湿性、改善烘干效果和提高产量而产生的污染物。依托两种技术开发的产品能在减少溶剂有害成分的基础上，依然表现出极佳的清洗效果。
 
ZESTRON专为SMT行业和功率电子行业的客户提供基于各种清洗技术的清洗液和清洗工艺。全球8个技术中心，拥有70多台国际领先清洗设备，ZESTRON致力于为客户寻找最优的清洗工艺及配套设备，帮助客户智选清洗设备。
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