去年全球光罩销售金额为37亿美元,国内仅一家公司提供?
时间:2018-04-11 11:02来源:ctimes
摘要:SEMI(国际半导体产业协会)公布最新半导体光罩市场总结报告(PhotomaskCharacterizationSummary),2017年全球光罩市场遽增13%,以375亿美元市值创下历史新高,预计于2019年市值将超越40亿美元大关。
SEMI (国际半导体产业协会) 公布最新半导体光罩市场总结报告(Photomask Characterization Summary),2017年全球光罩市场遽增13%,以37.5亿美元市值创下历史新高,预计于2019年市值将超越40亿美元大关。
根据报告内容显示,2018年及2019年光罩市场可望分别成长5%及4%,市场成长驱动力仍是先进技术小于45nm的特征尺寸(feature size)及亚太地区产能成长。台湾连续第7年蝉联连全球最大光罩市场,并预计于2018及2019年期间持续维持全球最大市值。韩国排名跃升,位居第二。
2017年光罩市场以营收37.5亿美元市值,占整体晶圆制造材料的13%,占比仅小于矽材料及半导体气体。随着光罩在半导体制程中所扮演的角色日渐加强,晶圆大厂附属的光罩部门(captive mask shop)受惠于2011年与2012年密集资本支出,持续于独立光罩厂(merchant mask shop)提升市占率。2003年附属光罩部门仅占整体市场31%,至2017年晶圆大厂的附属光罩部门已占整体光罩市场65%,相较2016年也有63%的成长。
SEMI近日发布的2017年光罩市场总结报告(2017 Photomask Characterization Summary),针对北美、日本、欧洲、台湾、韩国、中国大陆与其他地区等全球七大地区提供详尽的2017年光罩市场数据。内容包括2003到2019年间各个地区的资料,并总结过去一年微影市场的发展状况
光罩市场分析,国内仅一家供应商
光罩又称光掩模版、掩膜版,由石英玻璃作为衬底,在上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺——光刻的最关键器件。
对晶圆制造厂来说,光罩的设计和制造需要紧密衔接,因此,晶圆制造厂商一般都有自己的专业光罩工厂来生产自身需要的光罩,先进的光罩技术也因此掌握在具有先进晶圆制造能力的晶圆厂手中。目前,英特尔、三星、台积电三家全球最先进的晶圆制造厂所用的光罩大部分由自己的专业工厂生产,外购量较少。2016年晶圆大厂的附属光罩部门收入占整体光罩市场收入的63%。
除了集成电路最先进制程所用的光罩主要由各大晶圆厂自行制造之外,其他领域的光罩主要被三家公司所垄断:美国Photronics、日本DNP 和日本凸版印刷Toppan。至于国内的光罩产业,受益于过去几年中国晶圆制造的快速发展,中国大陆光罩市场规模出现快速增长的趋势。2016年,中国半导体光罩市场规模由2015年的41.45亿元增长至45.6亿元。
至于供应,按照台湾波若威董事长吴国精则表示,光罩产业形势很好,中国大陆积极发展半导体产业,预计新建40座晶圆厂,光罩不可或缺,但目前大陆仅中微掩模1家光罩厂,对台湾光罩是一大机会。
但其实根据数据相关资料显示,国内方面,具备一定光罩制造能力的企业不多,除了中芯国际具备28nm 光罩制造能力之外,还有中科院微电子中心、路维光电、深圳清溢光电等公司。整体而言,国内企业技术和加工能力有限,在半导体光罩领域与国外差距较大。
现阶段,大陆半导体战火从IC设计、晶圆制造、DRAM/NAND Flash技术、封测、设备领域一路延烧到关键的光罩产业,继大日本印刷(DNP)和美商Photronics在厦门合资成立美日丰创光罩,引进40/28纳米制程,光罩龙头日本凸版印刷(Toppan)和子公司中华凸版(TCE)亦表态,不排除与大陆政府或企业进行各种合作和合资,抢攻大陆半导体市场成长契机。面对国外巨头的威胁,中国企业急需提高技术水平。
根据报告内容显示,2018年及2019年光罩市场可望分别成长5%及4%,市场成长驱动力仍是先进技术小于45nm的特征尺寸(feature size)及亚太地区产能成长。台湾连续第7年蝉联连全球最大光罩市场,并预计于2018及2019年期间持续维持全球最大市值。韩国排名跃升,位居第二。
2017年光罩市场以营收37.5亿美元市值,占整体晶圆制造材料的13%,占比仅小于矽材料及半导体气体。随着光罩在半导体制程中所扮演的角色日渐加强,晶圆大厂附属的光罩部门(captive mask shop)受惠于2011年与2012年密集资本支出,持续于独立光罩厂(merchant mask shop)提升市占率。2003年附属光罩部门仅占整体市场31%,至2017年晶圆大厂的附属光罩部门已占整体光罩市场65%,相较2016年也有63%的成长。
SEMI近日发布的2017年光罩市场总结报告(2017 Photomask Characterization Summary),针对北美、日本、欧洲、台湾、韩国、中国大陆与其他地区等全球七大地区提供详尽的2017年光罩市场数据。内容包括2003到2019年间各个地区的资料,并总结过去一年微影市场的发展状况
光罩市场分析,国内仅一家供应商
光罩又称光掩模版、掩膜版,由石英玻璃作为衬底,在上面镀上一层金属铬和感光胶,成为一种感光材料,把已设计好的电路图形通过电子激光设备曝光在感光胶上,被曝光的区域会被显影出来,在金属铬上形成电路图形,成为类似曝光后的底片的光掩模版,然后应用于对集成电路进行投影定位,通过集成电路光刻机对所投影的电路进行光蚀刻。光罩是半导体核心工艺——光刻的最关键器件。
对晶圆制造厂来说,光罩的设计和制造需要紧密衔接,因此,晶圆制造厂商一般都有自己的专业光罩工厂来生产自身需要的光罩,先进的光罩技术也因此掌握在具有先进晶圆制造能力的晶圆厂手中。目前,英特尔、三星、台积电三家全球最先进的晶圆制造厂所用的光罩大部分由自己的专业工厂生产,外购量较少。2016年晶圆大厂的附属光罩部门收入占整体光罩市场收入的63%。
除了集成电路最先进制程所用的光罩主要由各大晶圆厂自行制造之外,其他领域的光罩主要被三家公司所垄断:美国Photronics、日本DNP 和日本凸版印刷Toppan。至于国内的光罩产业,受益于过去几年中国晶圆制造的快速发展,中国大陆光罩市场规模出现快速增长的趋势。2016年,中国半导体光罩市场规模由2015年的41.45亿元增长至45.6亿元。
至于供应,按照台湾波若威董事长吴国精则表示,光罩产业形势很好,中国大陆积极发展半导体产业,预计新建40座晶圆厂,光罩不可或缺,但目前大陆仅中微掩模1家光罩厂,对台湾光罩是一大机会。
但其实根据数据相关资料显示,国内方面,具备一定光罩制造能力的企业不多,除了中芯国际具备28nm 光罩制造能力之外,还有中科院微电子中心、路维光电、深圳清溢光电等公司。整体而言,国内企业技术和加工能力有限,在半导体光罩领域与国外差距较大。
现阶段,大陆半导体战火从IC设计、晶圆制造、DRAM/NAND Flash技术、封测、设备领域一路延烧到关键的光罩产业,继大日本印刷(DNP)和美商Photronics在厦门合资成立美日丰创光罩,引进40/28纳米制程,光罩龙头日本凸版印刷(Toppan)和子公司中华凸版(TCE)亦表态,不排除与大陆政府或企业进行各种合作和合资,抢攻大陆半导体市场成长契机。面对国外巨头的威胁,中国企业急需提高技术水平。
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