明导国际日前宣布，由中国政府、上海联创投资管理有限公司、上海华虹（集团）有限公司、上海宏力半导体制造有限公司以及上海华虹NEC电子有限公司等合资成立的晶圆代工企业上海华力微电子有限公司采用了Calibre RET 和OPC计算光刻平台，以支持其65、55和45nm工艺的开发和生产。Mentor Calibre nmOPC与Calibre OPCverify产品是根据综合技术标准对比选用的，Calibre方案被证明具有更高的精确度，更好的易用性,更低的拥有成本，以及更好的整体支持能力。
华力生产副厂长郭明升（Ming-Sheng Guo）表示：“作为一家新成立的晶圆代工企业，华力在制定可以投入生产的RET和OPC方案时面临着陡峭的学习曲线和严峻的时间限制。明导国际凭借其对华力技术交付及技术支持方面的坚定承诺脱颖而出。我们之所以选择明导国际作为独家合作伙伴，在于它能够满足我们极具挑战性的技术、时间和成本要求。我们相信该合作关系对建立在当今代工市场领域中具备竞争力的后GDSII流片流程至关重要。”
明导国际公司“从设计到晶片”事业部副总裁兼总经理Joseph Sawicki说：“最先进的技术和帮助客户取得成功的不懈努力，使明导国际在集成电路制造领域具备优势。Calibre OPC / RET / MDP是业内最常用的生产应用软件平台，该平台使华力拥有了完整的光掩膜数据准备流程，并能在统一平台及一致的环境中进行OPC的研发和量产。”
如需了解详情，请参见http://www.mentor.com/products/ic-manufacturing/computational-lithography/。