美国Integra公司推出新型IGT5259CW25功率晶体管,适用于C波段连续波应用
时间:2018-06-05 11:56来源:Integra Technologies
摘要:美国加利福尼亚州IntegraTechnologies公司宣布推出全新匹配碳化硅上氮化镓(GaNSiC)晶体管,适用于C波段,连续波(CW)应用的RF功率晶体管。
美国加利福尼亚州Integra Technologies公司——全球领先的高功率射频功率晶体管和射频功率模块设计和供应商,宣布推出全新匹配碳化硅上氮化镓(GaN / SiC)晶体管,适用于C波段,连续波(CW)应用的RF功率晶体管。
IGT5259CW25为50欧姆完全匹配,瞬时频率范围为5.2-5.9GHz,在36V漏极偏置电压下提供至少25W的输出功率。它具有12 dB的增益,在CW条件下具有48%的效率。 (使用此晶体管时需要负栅极电压和偏置时序。)
关于Integra Technologies公司
Integra是高功率RF和微波晶体管和功率放大器的领先设计者和制造商。为雷达、航空电子设备、国防、通信、电子战等应用领域提供定制化解决方案,可小批量到大批量提供定制产品。Integra制造的技术包括GaN / SiC HEMT、Si-LDMOS、Si-VDMOS和Si双极半导体方法,这些技术已在他们自己的工厂及其合作伙伴处得到验证。
IGT5259CW25为50欧姆完全匹配,瞬时频率范围为5.2-5.9GHz,在36V漏极偏置电压下提供至少25W的输出功率。它具有12 dB的增益,在CW条件下具有48%的效率。 (使用此晶体管时需要负栅极电压和偏置时序。)
关于Integra Technologies公司
Integra是高功率RF和微波晶体管和功率放大器的领先设计者和制造商。为雷达、航空电子设备、国防、通信、电子战等应用领域提供定制化解决方案,可小批量到大批量提供定制产品。Integra制造的技术包括GaN / SiC HEMT、Si-LDMOS、Si-VDMOS和Si双极半导体方法,这些技术已在他们自己的工厂及其合作伙伴处得到验证。
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