三星采用新思科技 Custom Compiler 为采用 EUV 技术的 5LPE 工艺加速 IP 设计

时间:2020-02-17 17:59来源:21Dianyuan

摘要:三星基于新思科技定制设计平台,发布5LPEAMS参考流程

• 三星已经在其内部IP设计中采用Custom Compiler,为5LPE工艺加速混合信号IP设计
• 新思科技定制设计平台是第一款面向三星5LPE工艺提供AMS参考流程的定制设计解决方案
• 5LPE AMS参考流程能够帮助提升设计工程师的工作效率,加速针对5G、人工智能、高性能计算和汽车应用的部署

新思科技Synopsys, Inc.,纳斯达克股票代码:SNPS)近日宣布,全球先进半导体技术领导者三星已经采用新思科技定制设计平台,基于Custom Compiler™设计环境,为其采用远紫外(EUV)光刻技术的5纳米早期低功耗(LPE)工艺进行IP设计。为了支持部署,三星和新思科技已经共同开发了针对该平台的模拟/混合信号(AMS)参考流程,以及5LPE可互操作工艺设计套件(iPDK),并且现在能够提供给三星的客户使用。这个参考流程充分利用Custom Compiler的视觉辅助自动化技术,帮助提升开发者的工作效率,以更快速度完成设计。


三星IP开发团队副总裁Jongshin Shin表示:“5G、人工智能、高性能计算和汽车应用等日益增长,推动了客户采用5LPE工艺技术的需求。为了提升这个工艺节点开发者的效率,我们与新思科技合作开发AMS参考流程,并为我们自己的内部设计团队部署这一流程。”

新思科技定制设计平台是首款面向三星5LPE工艺并提供AMS参考流程支持的定制设计解决方案。这个定制设计平台的主要特征包括可靠性感知验证、参数提取融合技术和视觉辅助版图设计。可靠性感知验证可以确保进行可靠的AMS设计,并带有签核(Sign-off)精度的晶体管级EM/IR分析、大规模蒙特卡洛仿真、老化分析和其它验证检查。采用StarRC™寄生参数提取的参数提取融合技术通过在版图设计完成之前,支持精确的寄生仿真,来缩短设计收敛时间。视觉辅助自动化是一种减少版图设计工作量的开创性方法,尤其适用于先进节点设计,它已被证明能够提升工作效率。

三星已经为其内部IP设计团队部署了基于新思科技定制设计平台的完整设计流程,以便加速5LPE IP设计。相同的平台也在被新思科技使用,为三星5LPE工艺设计业内最广为使用的经过硅验证的IP -- Synopsys DesignWare® Library。新思科技的定制设计平台以Custom Compiler电路设计和版图设计环境为基础,包含HSPICE®、FineSim® SPICE和CustomSim™ FastSPICE电路仿真;Custom WaveView™波形显示;StarRC寄生参数提取以及IC Validator物理验证。

5LPE参考流程包含一系列教程,以阐明怎样利用新思科技定制平台来达到5纳米电路和版图设计的关键要求。这些教程包含样例设计数据和步骤介绍说明,支持完成典型的电路和版图设计任务。

所覆盖的任务包含:
• 设计输入
• 电路仿真
• 可靠性和可变性分析
• 瞬态噪声分析
• RF仿真
• 原理图驱动的版图设计
• Dummy填充和着色
• 签核DRC和LVS

该参考流程可以通过三星SAFE™计划获取,这项计划提供经过广泛测试的三星工艺设计套件(PDK)和参考流程(附带设计方法)。

新思科技芯片设计事业部产品管理副总裁Aveek Sarkar表示:“在以期利用现有设计工具更快取得结果的需求推动下,客户正在加速转向使用Custom Compiler。此次合作,能够让我们共同的客户,包括三星内部IP开发者,最大限度地提升开发者的工作效率,并以更快的速度完成设计。”欲了解更多新思科技定制设计平台详情,请访问www.customcompiler.info

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