台积电准备采用国产5nm 光刻机

时间:2018-12-27 10:31来源:21Dianyuan

摘要:半导体工艺是非常高精密的高科技工艺,像台积电这种新工艺界的带头人也不可能自己完全搞定,而是依赖整个产业链的设备和技术供应,比如大家比较熟悉的光刻机,但是设备仅仅来自荷兰ASML(阿斯麦)一家。

众所周知,半导体工艺是非常高精密的高科技工艺,像台积电这种新工艺界的带头人也不可能自己完全搞定,而是依赖整个产业链的设备和技术供应,比如大家比较熟悉的光刻机,但是设备仅仅来自荷兰ASML(阿斯麦)一家。
 
ASML一年最多可以生产12台EUV光刻机(NXE:3400B),单台价格超过8亿人民币,媲美一架美军F35战机。台积电在去年砸钱抢到了几台,才让其7nm EUV极紫外光刻工艺芯片完成首次流片,并且台积电的7nm产线已经被AMD等大厂预定。
 

不过从更先进的5nm工艺时代开始,这一垄断恐怕要打破了。近日有实锤在台积电的5nm生产线中,就有来自我国深圳中微半导体的5nm等离子体蚀刻机,完全自主研发,并且已经通过了台积电的验证,台积电的5nm工艺就靠它。中微半导体CEO尹志尧骄傲地形容说:“在米粒上刻字的微雕技艺上,一般能刻200个字已经是极限,而我们的等离子刻蚀机在芯片上的加工工艺,相当于可以在米粒上刻10亿个字的水平。”国产能有这样的成就,中国芯片将屹立世界之巅可不是玩笑话了。
 

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