英特尔2016年半导体研发支出仍称冠_资讯频道

时间：2017-02-20 15:52来源：电子技术应用网

摘要：美国半导体业者英特尔(Intel)2016年研发支出年增5%，达12740亿美元，续称霸所有半导业者。台湾台积电与联发科则是分别以支出2215亿与1730亿美元，名列全球六与七名。

美国半导体业者英特尔(Intel)2016年研发支出年增5%，达127.40亿美元，续称霸所有半导业者。台湾台积电与联发科则是分别以支出22.15亿与17.30亿美元，名列全球六与七名。

调研机构IC Insights表示，2016年全球所有半导体业者投入在研发上的支出年增1%，达565亿美元，创历史新高。

其中英特尔支出就独占22.5%，远高于其他业者。此外，英特尔研发支出约占当年该公司总销售额的22.4%。在支出排名前13大业者中，该项占比仅次于支出排名第二高通(Qualcomm)的33.1%，以及排名第五东芝(Toshiba)的27.6%。

据悉，2016年高通与东芝研发支出虽分别年减7%与5%，但仍以51.09亿美元与27.77亿美元，居全球第二与五名。

IC Insights表示，虽然2016年英特尔研发支出仍居全球各业者之冠，但当年支出年增率低于该公司自2011年以来平均支出年增率的9%，以及自2001年以来平均支出年增率的8%。

不过近20年来该公司研发支出在总销售额中的占比仍在不断扬升。由1995年的9.3%，扬升为2005年的14.5%，然后再扬升为2016年的22.4%。

就纯IC设计(fabless)业者而言，高通2016年研发支出居其他纯IC设计业者之冠。其次为博通(Broadcom)、联发科，以及NVIDIA等业者。

博通、联发科与NVIDIA 2016年研发支出分别为31.88亿、17.3亿与14.63亿美元，在所有半导体业者中居第三、六与11名。

就记忆体主要业者而言，三星电子(Samsung Electronics)、东芝与美光科技(Micron)2016年研发支出分别为28.81亿、27.77亿与16.81亿美元，名列第四、五与八名。

不过三星2016年研发支出仅占该公司当年总销售额的6.5%，为前13大业者之末。

在纯晶圆代工业者(pure-play foundry)方面，则是仅有台积电名列前十。该公司2016年研发支出年增7%，达22.15亿美元，排名第六。此外，该公司研发支出占总销售额的7.5%。

IC Insights表示，先前半导体业者间的整并，对整体半导体产业研发支出成长具有重要影响。

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